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氣體旋流條件下氧化鎂顆粒運動數值模擬

作者:黃敏1舒文秀2岳云輝3仇天忠4

作者單位:1.馬鞍山鋼鐵股份有限公司2.沈陽新松醫療科技股份有限公司3.沈陽東大三建工業爐制造有限公司4.中電科技揚州寶軍電子有限公司

刊名:大眾標準化

ISSN:1007-1350

出版年:2024-11-15

卷:

期:21

起頁:95-97

止頁:

分類號:TQ132.2

語種:中文

關鍵詞:數值模擬;旋流;氣固兩相流;

內容簡介

旋流動態煅燒爐在氧化鎂生產中逐步得到應用,但其參數設計仍然依賴設計經驗。缺乏對爐內氣固兩相運動情況的研究是造成這一現象的原因。作為影響固相顆粒運動的重要因素,氣體旋流條件下顆粒的運動的影響顯得更為重要。因此,文章基于Euler-Lagrange方法建立了實驗室規模的帶有氣體旋流設計的垂直下降管數值計算模型,并通過數值模擬的方式研究了內部的氣相的流場分布以及固相運動的基本規律。模擬結果顯示,增加旋流設計后,在管道中心區域會產生一個氣體回流區域。該區域的存在降低了顆粒的軸向速度,有利于顆粒的徑向和切向的擴散,進而延長顆粒在流場內的停留時間。

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